[시사오늘·시사ON·시사온= 김기범 기자]

이재용 삼성전자 부회장이 세계 1위 달성을 위한 경자년(庚子年) 첫 경영 행보를 내딛었다.

삼성전자는 2일 이재용 부회장이 경기도 화성사업장 반도체연구소를 방문해 자사가 세계 최초로 개발한 3나노 공정기술을 보고받고, DS부문 사장단과 함께 차세대 반도체 전략을 논의했다고 밝혔다.

반도체 미세화 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술인 ‘GAA(Gate-All-Around)’를 적용한 3나노 반도체는 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품에 비해 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있다. 또한, 소비전력을 50% 감소시키면서 성능(처리속도)은 약 30% 향상시킬 수 있다.

재계는 이 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한 번 임직원과 공유하며 목표 달성 의지를 다진 것으로 분석했다.

이날 이 부회장은 “과거 실적이 미래의 성공을 보장해 주지 않는다”며 “역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것이다. 잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자”고 말했다.

이어 “우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자”고 강조했다.