삼성 지원받은 차세대 반도체 소재 연구, 세계적 학술지 게재
삼성 지원받은 차세대 반도체 소재 연구, 세계적 학술지 게재
  • 한설희 기자
  • 승인 2021.08.25 11:16
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네이처 커뮤니케이션스, 손준우·최시영 교수팀 연구 성과 게재
반도체 미세화에 따른 발열 문제 해결 가능 대체 소재 기술 개발
삼성전자, 2013년 1조 5000억 원 출연해 과학기술 분야 지원

(시사오늘, 시사ON, 시사온= 한설희 기자)

삼성전자는 삼성미래기술육성사업이 지원하는 국내 대학 연구팀의 차세대 반도체 소재 연구가 국제학술지에 게재됐다고 25일 밝혔다. 사진은 연구팀의 모습. ⓒ삼성전자
삼성전자는 삼성미래기술육성사업이 지원하는 국내 대학 연구팀의 차세대 반도체 소재 연구가 국제학술지에 게재됐다고 25일 밝혔다. 사진은 연구팀의 모습. ⓒ삼성전자

삼성전자는 삼성미래기술육성사업이 지원하는 국내 대학 연구팀의 차세대 반도체 소재 연구가 국제학술지에 게재됐다고 25일 밝혔다. 해당 연구 기술이 상용화되면 반도체 발열 문제를 해결하는 데 적용된다. 

손준우 포스텍 신소재공학과 교수와 최시영 교수 연구팀은 반도체 미세화에 따라 중요성이 높아진 열 문제 해결을 위한 차세대 소재 기술을 개발했다. 연구팀은 지난 2017년 7월 삼성미래기술육성사업 연구과제로 선정돼 3년간 지원을 받았다. 

이들의 연구 결과는 고집적 반도체용으로 사용 가능한 새 소재를 개발한 성과로 인정받아, 최근 국제학술지 ‘네이처 커뮤니케이션스(Nature Communications)’에 게재됐다.

반도체 분야 혁신은 미세화를 통한 트랜지스터 회로 집적도를 높이는 방향으로 전개됐다. 반도체는 집적도가 커질수록 반도체 소자가 동작하면서 발생하는 열에 의한 오작동 등의 문제가 제기된다. 

연구팀은 이를 해결하기 위해 상전이 산화물 반도체의 일종인 ‘단결정 산화바나듐’이 기존 대비 발열이 덜 되는 성질에 주목, 이를 실리콘 웨이퍼 위에 적층할 수 있는 기술을 개발했다. 또한 적층으로 인한 전기적 결함을 없애기 위해 실리콘 웨이퍼 위에 결정 구조가 같은 산화티타늄을 우선 적층한 후, 그 위에 산화바나듐을 단결정 상태로 성장시키는 데 성공했다.

삼성전자는 삼성미래기술육성사업을 통해 지난 2013년부터 1조 5000억 원을 출연해 과학기술 연구에 지원하고 있다. 매년 상·하반기에 기초과학·소재·ICT 분야 지원 과제를 선정하고, 1년에 공모전을 통해 미래 기술에 해당하는 연구를 지원한다. 연구자들이 목표를 달성하지 못해도 책임을 묻지 않는 것이 특징이다. 

삼성미래기술육성사업은 현재 682개 과제에 8865억 원을 지원했다. 국제학술지에 총 게재된 논문은 총 2130건으로, 이중 △네이처(7건) △사이언스(7건) △셀(1건) 등 최상위 학술지에 소개된 논문은 189건에 달한다.
 

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