(시사오늘, 시사ON, 시사온=유경표 기자)
삼성전자가 미세공정 한계 극복을 위해 EUV(Extreme Ultra Violet,극자외선)장비를 본격 도입했다.
삼성전자는 23일 경기도 화성캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV 라인 기공식'을 가졌다. 화성 EUV라인은 내년 하반기에 완공되며, 시험생산을 거쳐 2020년부터 본격 가동에 들어갈 예정이다.
반도체 성능과 전력효율을 향상시키기 위해서는 집적도를 높이고 세밀한 회로를 구현하는 공정 미세화 작업이 필수적이다. 최근 한 자리 수 나노 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해서는 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비 도입이 불가피 하다는 것이 삼성전자의 설명이다.
EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있음은 물론 회로 형성을 위한 공정수가 줄어들어, 생산성도 획기적으로 높일 수 있을 것으로 전망된다.
삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일·서버·네트워크·HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기 대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장의 주도권을 확보한다는 전략이다.
초기 투자규모는 건설비용 포함 2020년까지 60억 달러 수준으로, 라인 가동 이후 시황에 따라 추가 투자가 이뤄질 것으로 보인다.
삼성전자 DS부문장 김기남 사장은 "이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것"이라며 "삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여할 것"이라고 말했다.
한편, 이날 기공식에는 권칠승 국회의원(화성시병), 황성태 화성시 부시장, 삼성전자 DS부문장 김기남 사장, 파운드리 사업부장 정은승 사장, 지역주민 등 약 300명이 참석했다.
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